年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996٪

三氟化氮 (نیتروژن تری فلوراید），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⹽显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻茀埓清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出在瞬间放出弤饇应-

تری فلوراید نیتروژن با فرمول شیمیایی NF3 یک عامل اکسید کننده قوی است. به عنوان یک گاز ویژه صنعتی مهم، کاربردهای گسترده ای دارد.
در صنعت میکروالکترونیک، تری فلوراید نیتروژن یک گاز حکاکی پلاسما عالی است. در تراشه های نیمه هادی، صفحه نمایش صفحه تخت، فیبر نوری، سلول های فتوولتائیک و سایر زمینه های تولیدی، تری فلوراید نیتروژن عمدتا به عنوان گاز حکاکی پلاسما و عامل پاک کننده حفره واکنش استفاده می شود.
همچنین می توان از آن در لیزرهای شیمیایی پرانرژی استفاده کرد تا با واکنش با هیدروژن برای انتشار مقدار زیادی گرما در یک لحظه، کاربرد خود را به دست آورد. تری فلوراید نیتروژن همچنین به عنوان سوخت پر انرژی و به عنوان اکسید کننده و پیشران در پرتاب موشک استفاده می شود.